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企業一般在單晶爐內設置冷卻結構

2024-02-25


    單晶(jing)(jing)(jing)爐(lu)是利用(yong)石墨加熱(re)器在惰性氣體(ti)(ti)(主(zhu)要是氮氣和(he)氦(hai)氣)環境中熔化(hua)多晶(jing)(jing)(jing)硅(gui)(gui)(gui)等多晶(jing)(jing)(jing)硅(gui)(gui)(gui)材料,采用(yong)齊拉斯基(ji)法生(sheng)長無位(wei)錯單晶(jing)(jing)(jing)的(de)(de)一(yi)種設備(bei)(bei)。它的(de)(de)內部(bu)結構*其(qi)復雜。但是單晶(jing)(jing)(jing)硅(gui)(gui)(gui)棒的(de)(de)生(sheng)產對(dui)環境要求非常高。如(ru)果爐(lu)體(ti)(ti)溫度(du)過高,爐(lu)體(ti)(ti)會(hui)(hui)變形,影響(xiang)設備(bei)(bei)尺寸和(he)單晶(jing)(jing)(jing)硅(gui)(gui)(gui)棒的(de)(de)生(sheng)長。如(ru)果爐(lu)體(ti)(ti)長期處于高溫環境的(de)(de)工(gong)作狀(zhuang)態(tai),爐(lu)體(ti)(ti)上會(hui)(hui)出現(xian)裂紋,對(dui)爐(lu)體(ti)(ti)造成損壞(huai),降低爐(lu)體(ti)(ti)的(de)(de)使用(yong)壽(shou)命。

   為了降低單晶爐工作過程中的溫度(du),一(yi)般在(zai)單晶爐內(nei)設置冷卻(que)結(jie)構,通過冷卻(que)水循(xun)環系統將單晶爐內(nei)的熱(re)量(liang)帶(dai)走(zou),從(cong)而降低單晶爐內(nei)的溫度(du)。但是,水冷卻(que)系統需(xu)要(yao)配備(bei)冷水機組、冷卻(que)池、冷卻(que)水泵、熱(re)交換器等設備(bei)。整個系統結(jie)構復雜,占用空間(jian)大,對水質(zhi)和(he)流(liu)量(liang)有特殊要(yao)求。安裝和(he)使(shi)用困(kun)難(nan)。

半導體工藝設(she)備為大(da)規模(mo)半導體制造提(ti)供了制造基礎。描繪電子(zi)產(chan)業未(wei)來的摩爾定律,將(jiang)導致未(wei)來半導體器件的集成(cheng)化和小型化程度更(geng)高,功能更(geng)強。

單晶爐

單晶(jing)爐(lu)是(shi)一種(zhong)全自動直(zhi)拉單晶(jing)生長爐(lu),是(shi)利用(yong)石(shi)墨(mo)加熱器在惰性氣(qi)體(氮氣(qi)、氦氣(qi))環境(jing)中熔化多(duo)晶(jing)硅等(deng)多(duo)晶(jing)材料,采用(yong)直(zhi)拉法生長無位錯單晶(jing)的設備。

單晶硅爐的模型有兩種命名方法,一種是進料量,另一種是爐膛(tang)直(zhi)徑。如120、150等型號(hao)由進料量決定,85爐指的是主爐筒直(zhi)徑。

單晶硅(gui)爐的主(zhu)體由(you)主(zhu)機、加熱(re)電源和計算(suan)機控制(zhi)系(xi)統(tong)組(zu)成。


制冷機主要應用于空調冷卻系統、冷凍系列、注塑、制革、發泡、發電、汽輪機、鋁型材加工、空壓機、工業水冷卻等領域,應用最多的為空調冷卻、冷凍、塑膠化工行業。
工業生產或制冷工藝過程中產生的廢熱,一般要用冷卻水來導走。冷卻塔的作用是將挾帶廢熱的冷卻水在塔內與空氣進行熱交換,使廢熱傳輸給空氣并散入大氣中。
例如:火(huo)電(dian)(dian)廠內,鍋爐將水(shui)加熱(re)成(cheng)高溫(wen)高壓(ya)蒸汽(qi),推(tui)動汽(qi)輪機(ji)做功使(shi)發電(dian)(dian)機(ji)發電(dian)(dian),經汽(qi)輪機(ji)作功后的(de)(de)廢(fei)汽(qi)排入冷凝(ning)器,與冷卻水(shui)進行熱(re)交換(huan)凝(ning)結成(cheng)水(shui),再用水(shui)泵打回鍋爐循環使(shi)用。這一過程中乏(fa)汽(qi)的(de)(de)廢(fei)熱(re)傳給了冷卻水(shui),使(shi)水(shui)溫(wen)度升高,挾(xie)帶廢(fei)熱(re)的(de)(de)冷卻水(shui)。


單晶硅片的工藝流程

硅(gui)(gui)(gui)(gui),地球上有很多含硅(gui)(gui)(gui)(gui)的(de)東西(xi)。似乎90%以上都是晶硅(gui)(gui)(gui)(gui),也就(jiu)是單晶硅(gui)(gui)(gui)(gui)。太陽能級(ji)硅(gui)(gui)(gui)(gui)的(de)純度在(zai)6N以上。

首先是石頭(tou)(所(suo)有(you)的(de)石頭(tou)都含有(you)硅)。將石頭(tou)加熱至(zhi)液態(tai),再加熱至(zhi)氣(qi)(qi)態(tai)。讓氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)通過一(yi)個密封的(de)大盒(he)子(zi)。盒(he)子(zi)里(li)有(you)N個以上的(de)子(zi)晶(jing)體(ti)(ti)(ti)用于(yu)加熱,兩端用石墨(mo)夾緊。當氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)穿(chuan)過盒(he)子(zi)時,子(zi)晶(jing)體(ti)(ti)(ti)會將其中一(yi)種氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)吸收到子(zi)晶(jing)體(ti)(ti)(ti)上,子(zi)晶(jing)體(ti)(ti)(ti)就會逐(zhu)漸變厚。因為(wei)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)變成固體(ti)(ti)(ti),很慢,大約一(yi)個月左右,盒(he)子(zi)里(li)有(you)很多(duo)長初級(ji)多(duo)晶(jing)硅。

單晶硅芯(xin)片由此進入(ru)生產(chan)過程:

1. 酸洗:用稀(xi)硝(xiao)酸HNO3進行(xing)清洗,去除精煉過(guo)程(cheng)中產生的表面雜質和四(si)氯(lv)化硅(gui)。

2. 清洗(xi):清洗(xi)酸洗(xi)后硅材料的殘(can)留雜(za)質(zhi)。

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